Page 9 - CONEXUS - Junio 2011

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Académico UNAP Juan Aragón Maureira,
Doctor en Ciencias Exactas con mención en
Química.
ACADÉMICO UNAP
Académico de la
UNAP realizó
publicación Scielo
"Efecto de la Concentración de Ion Cloruro en la
Estructura de Electrodepósitos de Cobre”, es el nombre
de la publicación ISI Scielo que ha sido publicado en la
Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales, por
el académico del Departamento de Ingeniería de la
Universidad Arturo Prat, el Dr. Juan Aragón Maureira.
egún el Doctor las publicaciones Scielo corresponden
a una colección de revistas electrónicas, seleccionadas en
base a determinados estándares, especialmente creados
para responder a las necesidades de comunicación
científica de los países en desarrollo, en particular de
Latinoamérica y el Caribe. “El objetivo principal del
Proyecto Scielo es generar una metodología común para
la preparación, difusión y almacenamiento de la
información científica en formato electrónico”.
El investigador indica que las universidades requieren
medir y a la vez mostrar el impacto de la investigativa
realizada, no sólo por responder a las exigencias
generadas por el proceso de acreditación o por los
beneficios económicos indirectos que se pueden alcanzar,
sino principalmente porque la generación, difusión y
transferencia de las ciencias es parte fundamental de su
misión.
De acuerdo al resumen de esta publicación, el análisis
metalográfico de los depósitos de cobre obtenidos en
soluciones ácidas de sulfato de cobre, cuando se cambia
la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite
corroborar que el depósito de grano grueso de tipo
"cristales que reproducen la base" (RB)
inicial, empieza a afinarse pasando a un
crecimiento de textura orientada en el
campo de tipo FT a una estructura en
forma de polvo o estructuras dispersas sin
orientación, de tipo UD. Sobre los 50
mg/L de cloruro se produce el efecto
contrario, el tamaño de grano empieza a
aumentar. Además, al adicionar guar
entre 15 y 30 mg/L, se observa que con
30 g/L de cloruro, mejora la calidad del
depósito, la que se optimiza al aumentar
la densidad de corriente hasta 290 A/m2
y la temperatura hasta 55ºC.
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