Académico del Departamento de Ingeniería realizó publicación Scielo
"Efecto de la Concentración de Ion Cloruro en la Estructura de Electrodepósitos de Cobre",es el nombre de la publicación ISI Scielo que ha sido publicado en la Revista Latinoamericana de Metalurgia y Materiales ,del académico del Departamento de Ingeniería de la Universidad arturo Prat , Dr. Juan Aragón Maureira.
De acuerdo al resumen de esta publicación el análisis metalográfico de los depósitos de cobre obtenidos en soluciones ácidas de sulfato de cobre, cuando se cambia la concentración del cloruro, entre 20-50 mg/L, permite corroborar que el depósito de grano grueso de tipo "cristales que reproducen la base" (RB) inicial, empieza a afinarse pasando a un crecimiento de textura orientada en el campo de tipo FT a una estructura en forma de polvo o estructuras dispersas sin orientación, de tipo UD. Sobre los 50 mg/L de cloruro se produce el efecto contrario, el tamaño de grano empieza a aumentar. Además, al adicionar guar entre 15 y 30 mg/L, se observa que con 30 g/L de cloruro, mejora la calidad del depósito, la que se optimiza al aumentar la densidad de corriente hasta 290 A/m2 y la temperatura hasta 55ºC.
Los interesados en conocer más antecedentes pueden ingresar al siguiente link:
/prontus_unap/site/docs/20110509/20110509124734/paper_cloruro_rlatinoamericana.pdf
